Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD, physical vapor deposition), Dünnschichttechnologie. PVD ist ein Oberflächenbeschichtungsverfahren auf physikalischer Basis, durchgeführt in Vakuum-Beschichtungsanlagen zur Abscheidung von Schichten auf Flachdisplays, Solarzellen und Spezialverglasungen mit photokatalytische Schichten. Ein auf Basis von chemischen Reaktionen durchgeführtes Verfahren wird mit chemischer Gasphasenabscheidung, CVD, bezeichnet.
Zur Übersicht
